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核心設備
鎘真空蒸餾爐
鎘在真空環境中達到1.33*10³Pa的蒸汽壓所需的溫度761K,達到1.33*104Pa的蒸汽壓所需的溫度為888K,低沸點的鎘液在坩堝內被加熱、汽化;蒸汽脫離液體表面后往蒸汽飽和度略低的頂部流動;經過蒸餾爐內的回流塔盤時,沸點高于鎘的金屬蒸汽以及部分鎘蒸汽會在此冷凝,并回流到坩堝內,大部分低沸點的鎘蒸汽通過塔盤后,在塔盤上方的冷凝器內冷凝成為精鎘液(99.995%精鎘)。
結構簡單
更換方便
溫度控制精準
產品單耗成本低
采用分體式結構更換方便
還原能力高
直收率高
能耗、堿耗降低
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